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ADHESION PROMOTION IN PHOTORESIST LAMINATION AND PROCESSING

机译:光刻胶层压和加工中的粘合促进

摘要

Use of a photoresist is improved due to increased adhesive to a substrate through an additive in the resist of a condensation polymer of formaldehyde, toluene sulfonamide and either a triazine such as melamine or hydantoin.
机译:由于通过甲醛,甲苯磺酰胺和三嗪(例如三聚氰胺或乙内酰脲)的缩合聚合物的抗蚀剂中的添加剂增加了对基材的粘附性,从而改善了光致抗蚀剂的使用。

著录项

  • 公开/公告号SG77192G

    专利类型

  • 公开/公告日1992-10-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY;

    申请/专利号SG19920000771

  • 发明设计人

    申请日1992-07-28

  • 分类号G03F7/02;

  • 国家 SG

  • 入库时间 2022-08-22 05:34:00

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