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METHOD OF THE DEPOSIT dielectric films in a plasma glow discharge.

机译:等离子体辉光放电中沉积电介质膜的方法。

摘要

机译:

著录项

  • 公开/公告号NL8304493A

    专利类型

  • 公开/公告日1984-08-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利号NL19830004493

  • 发明设计人

    申请日1983-12-30

  • 分类号H01L21/203;C01B33/12;H01L21/363;H05H1/30;

  • 国家 NL

  • 入库时间 2022-08-22 09:16:01

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