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A vapor deposition mask, a method for manufacturing a display device using the mask, and a display device.

机译：一种气相沉积掩模，一种用于制造使用掩模的显示装置的方法和显示装置。

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PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a vapor deposition mask, a method for manufacturing a display device using the same, and a display device. SOLUTION: A main frame defining a first opening, a plurality of ribs extending outward from one side of the main frame on a plane and being separated from each other to define a second opening, and a second. The plurality of bridges and the plurality of ribs form the same upper surface, and the thickness of each of the plurality of bridges is the thickness of each of the plurality of ribs. A vapor deposition mask thinner than the thickness is provided. [Selection diagram] Fig. 1

机译：要解决的问题：提供一种蒸汽沉积掩模，一种用于制造使用相同的显示装置的方法和显示装置。溶液：定义第一开口的主框架，多个肋从主框架的一侧向外延伸并彼此分开以限定第二开口，以及第二开口。多个桥和多个肋形成相同的上表面，并且多个桥中的每一个的厚度是多个肋中的每一个的厚度。提供比厚度更薄的气相沉积掩模。 [选择图]图1

著录项

公开/公告号JP2021086148A

专利类型
公开/公告日2021-06-03

原文格式PDF
申请/专利权人三星ディスプレイ株式會社;
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申请/专利号JP20200144436
发明设计人キムジョンク;ムンユンミン;
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申请日2020-08-28
分类号G09F9/40;G09F9/30;G09F9;H05B33/10;H01L51/50;H01L27/32;H05B33/26;H05B33/22;H05B33/12;C23C14/04;
国家 JP
入库时间 2022-08-24 19:12:41

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