曝光

摘要： GE XR/d数字化X光机(digital X-ray machine,DR)作为早期引进我国的数字化放射诊断设备,已经被广泛应用于国内各级医疗机构,尤其是三级医院。该型设备具有成像速度快、图像质量高、运行稳定等特点,已在我院稳定运行十余年,每年上级药监部门出具的图像质量报告均显示,其依然能以较高的成像水平达到国家标准,但是由于长时间和高强度的使用,难免会出现各种各样的问题,准确定位故障位置并及时修复故障对于保障设备的运行和医院诊断工作的顺利进行以及节约医院的运营成本具有重要意义。

摘要： 分析多层螺旋CT(MSCT)滑环装置及准直器系统的结构组成,按照高压电缆供电方式不同,阐述滑环和碳刷的工作流程,并对前准直器和后准直器的结构位置进行对比。分析MSCT滑环装置故障引起的曝光中断和准直器系统故障导致的图像伪影原因,科学规范地进行故障现象分析和排查,提出具体维修措施,为提高设备维修质量和效率奠定基础。

摘要： 3月15日晚,央视“3·15”晚会如期而至,本届晚会曝光了涉及网络直播、口碑营销、食品安全等多个与百姓生活密切相关的领域,其中不少令人触目惊心的曝光案例引发了舆论的激烈反应。有人说2021年是盲盒的“破圈”之年。然而在“万物皆可盲盒”愈演愈烈的同时,背后的问题也日益凸显。商品价格虚高、诱导过度消费以及产品质量差等情况时有发生。

摘要： 2022年3月15日,湖南省华容县锦瑞食品有限公司、湖南插旗菜业有限公司因土坑腌制酸菜问题被央视3.15晚会曝光。在曝光后,岳阳市联合执法组连夜赶赴涉事企业,对所有产品全部就地封存,对企业的相关人员予以控制,对外销产品立即启动追溯召回措施,并全面停止农户土坑腌制行为。同时,对全市腌制酸菜生产企业进行全面排查。

摘要： 为避免近视防控领域虚假违法广告对广大消费者的误导,2021年10月,国家市场监管总局发布《关于开展儿童青少年近视防控产品违法违规商业营销宣传专项整治行动的通知》,要求各地市场监管部门要依法从严查处使用“康复”“恢复”“降低度数”“近视治愈”“近视克星”“度数修复”等误导性表述,对儿童青少年近视防控产品进行营销宣传的行为。同时,市场监管部门立足职责,组织开展了儿童青少年近视防控产品违法违规商业营销宣传专项整治行动,严厉打击相关虚假违法广告。现选取已经办结的6件典型案例予以曝光,以作警示。

摘要： 曝光准确是外景拍摄中的一个重要环节。4K超高清电视引入了HDR高动态功能,有效提升了观众的观看效果,但同时又为前期拍摄的准确曝光提出了难题。使用摄像机自带的斑马纹功能,能有效解决上述难题。

摘要： 随着社会进步和高科技的发展,高速公路越来越被社会公众引起广泛关注,党建文化在高速公路管理中的作用也更加突显,只有将党建工作更好地与基层中心工作相融合,推进收费营运管理提升,维护员工队伍稳定,才能保障高速公路企业可持续高质量发展。

摘要： 本文就 Camera Raw 14.0 在照片调色中的运用展开探讨,分别从照片调色的曝光、色调处理、局部塑造,调色思维等方面进行探讨,为读者从调色思路,调色流程,调色原理等方面做出参考。

摘要： 针对某型电视导引头上电自检结束后观察外界景象时成像画面出现曝光的现象开展故障分析.通过研究导引头成像系统的工作原理及工作流程,建立故障树模型,逐层开展相关部件的原因分析,查找出故障最终原因,并对导引头进行修复.

摘要： 一年一度的“315”如期而至,《财经天下》周刊梳理了近9年来315晚会曝光的相关案例,“个人信息安全”问题高居榜首。比如,2019年,央视315晚会曝光了智能机器人拨打骚扰电话、企业借助“探针盒子”违法收集个人信息敛财牟利的问题。2020年,央视315晚会又曝光了手机中非法植入“窃贼”插件,盗取个人信息数据的问题。

摘要： 纳米线条在超导单光子探测、超导隧道结等超导电子学器件中具有广泛的应用。本文基于电子束曝光，实验上在大面积范围内获得了均匀的纳米线条。与此同时，对电子束曝光剂量、显影时间、光刻胶的旋涂等工艺条件进行了系统的研究。这些工艺条件的研究对后续超导电子学器件的制备具有一定的参考价值。

摘要： 了可用于微机电系统加工的细电子束液态曝光技术.对该工艺的曝光方式、真空度需求、抗蚀剂选择以及能量和剂量需求等问题进行了研究.在此基础上,采用SDS-Ⅱ型曝光机在5×10-3Pa的系统真空度、25kV加速电压、3μC/cm2曝光剂量的条件下,成功地固化了3μm厚的环氧618液体,给出了固化图片.

摘要： π/2相板的质量是相衬法实验成功的关键。采用全息干板,通过控制其曝光时间及冲洗过程,设计及制作了有一定吸收的π/2相板,用于相衬法实验。位相检测实验及相衬法实验结果表明：用全息干板制作相板的实验方案及工艺是可行的,且相板的位相与吸收率可以任意设计。

摘要： 利用高速相机拍摄高温物体,由于相机的动态范围很小,而高温物体的辐射强度变化很大,常出现高温部分饱和,其他部分曝光不足的现象,使高温部分的形貌变化被强光所淹没,无法清晰记录高温瞬变的过程.本文针对这一现象,进行了理论分析与实验研究,通过滤光片选取一个波段,使高温物体的辐射强度和太阳辐照度可比,并通过实验证明可以获得高温物体的清晰图像。

摘要： 本文主要就PCB图形转移中液态感光至抗蚀剂及其制作工艺和工序注意事项进行论述。

摘要： 本文主要就PCB图形转移中液态感光至抗蚀剂及其制作工艺和工序注意事项进行论述。

摘要： 本文主要就PCB图形转移中液态感光至抗蚀剂及其制作工艺和工序注意事项进行论述。

摘要： 本文主要就PCB图形转移中液态感光至抗蚀剂及其制作工艺和工序注意事项进行论述。

摘要： 本文主要就PCB图形转移工艺各工序注意事项及控制要点进行论述,介绍了如何制作合格线路图形的技术要点。

摘要： 本文主要就PCB图形转移工艺各工序注意事项及控制要点进行论述,介绍了如何制作合格线路图形的技术要点。

摘要： 提供一种能够独立地使用水银灯和LED这两者作为光源部的照明装置。该照明装置具备：以水银灯(31)为光源的第一光源部(30)；使来自该第一光源部(30)的光均匀地射出的复眼透镜(46)；分别反射来自第一光源部(30)的光的多个反射镜(40、41、50、51)；以及LED单元(60)，具有将多个LED元件(62)作为光源的第二光源部(61)和移动机构(70)，该移动机构(70)使该第二光源部(61)在位于第一光源部(30)的光路EL上的工作位置AP与远离第一光源部(30)的光路EL的退避位置WP之间移动。

摘要： 本发明公开了一种曝光系统中曝光剂量的监控方法、曝光方法及其曝光系统，该控制方法、曝光方法和曝光系统中，通过使用硅片面上参与曝光的第二光线能量，对中间焦点处不参与曝光的第一光线能量进行标定，建立二者之间的关系曲线，进而通过对中间焦点处不参与曝光的光线能量值进行实时在线监测，间接实现了对于硅片面上曝光能量（曝光剂量）的监测，通过监测的结果进行光开关控制，实现了在线监控曝光剂量的目的，提高了曝光剂量的监控精度。

摘要： 本发明提供一种能够提高处理能力，并能够更高效地进行多个基板的曝光的曝光装置和曝光方法、曝光单元以及使用该单元的曝光方法。该接近式曝光装量（11）具有：用于保持具有多个图案（P1、P2）的掩模（M）的掩模载置台（21）；具有用于保持作为被曝光件的多个基板（W1、W2）的工件卡盘（22）的基板载置台（23）；和借助掩模（M）的多个图案（P1、P2）向多个基板（W1、W2）照射曝光用光的照明光学系统。且在保持于工件卡盘（22）的多个基板（W1、W2）与保持于掩模载置台（21）的掩模（M）的各图案（P1、P2）对向配置的状态下，从照明光学系统照射曝光用光，将作为第一层的掩模（M）的各图案（P1、P2）单次曝光到多个基板（W1、W2）上。

摘要： 本发明提供可不使用高价掩模而改善析像度的曝光装置用光照射装置、接近曝光装置、接近曝光方法和基板制造方法。此外，本发明提供可高效地制造滤色器或液晶面板的掩模、被曝光基板、曝光装置和曝光方法。接近曝光装置使从多个光源部(73)射出的光的主光轴(L)分散入射到积分器(74)的周边部上。此外，掩模具有：形成有曝光到被曝光基板上的图案的曝光图案；形成在与曝光图案的外缘的第一边相邻的位置上的第一校准标识；和形成在与曝光图案的外缘的跟第一边相对置的第二边相邻的位置的第二校准标识；第一校准标识配置在从步进方向观察时与形成第二校准标识的位置不重叠的位置上。

摘要： 一种曝光用防护膜，其包含碳纳米管膜，碳纳米管膜含有碳纳米管，碳纳米管膜在波长13.5nm时的EUV光的透射率为80％以上，碳纳米管膜的厚度为1nm以上50nm以下，将碳纳米管膜配置于硅基板上，对于配置后的碳纳米管膜，使用反射分光膜厚度计，以下述条件测定反射率时，反射率的3σ为15％以下。＜条件＞测定点的直径：20μm，基准测定波长：波长285nm，测定点数：121点，相邻的测定点的中心点间距离：40μm。

摘要： 本发明提供能够以廉价的结构检测损伤、应变量等的镜的状态的曝光用镜、曝光用镜的制造方法、以及具备该曝光用镜的曝光装置。曝光用镜具备：反射膜，其形成于板状玻璃的表面侧，能够反射来自光源的光；以及导电性的成膜图案，其在板状玻璃的背面侧以比反射膜薄且从一端部到另一端部连续的方式成膜，成膜图案在曝光用镜损伤时断裂从而能够检测曝光用镜的损伤。

摘要： 本发明公开了一种曝光系统中曝光剂量的监控方法、曝光方法及其曝光系统，该控制方法、曝光方法和曝光系统中，通过使用硅片面上参与曝光的第二光线能量，对中间焦点处不参与曝光的第一光线能量进行标定，建立二者之间的关系曲线，进而通过对中间焦点处不参与曝光的光线能量值进行实时在线监测，间接实现了对于硅片面上曝光能量（曝光剂量）的监测，通过监测的结果进行光开关控制，实现了在线监控曝光剂量的目的，提高了曝光剂量的监控精度。

摘要： 本发明提供可不使用高价掩模而改善析像度的曝光装置用光照射装置、接近曝光装置、接近曝光方法和基板制造方法。此外，本发明提供可高效地制造滤色器或液晶面板的掩模、被曝光基板、曝光装置和曝光方法。接近曝光装置使从多个光源部(73)射出的光的主光轴(L)分散入射到积分器(74)的周边部上。此外，掩模具有：形成有曝光到被曝光基板上的图案的曝光图案；形成在与曝光图案的外缘的第一边相邻的位置上的第一校准标识；和形成在与曝光图案的外缘的跟第一边相对置的第二边相邻的位置的第二校准标识；第一校准标识配置在从步进方向观察时与形成第二校准标识的位置不重叠的位置上。

摘要： 本发明提供一种能够提高处理能力，并能够更高效地进行多个基板的曝光的曝光装置和曝光方法、曝光单元以及使用该单元的曝光方法。该接近式曝光装量（11）具有：用于保持具有多个图案（P1、P2）的掩模（M）的掩模载置台（21）；具有用于保持作为被曝光件的多个基板（W1、W2）的工件卡盘（22）的基板载置台（23）；和借助掩模（M）的多个图案（P1、P2）向多个基板（W1、W2）照射曝光用光的照明光学系统。且在保持于工件卡盘（22）的多个基板（W1、W2）与保持于掩模载置台（21）的掩模（M）的各图案（P1、P2）对向配置的状态下，从照明光学系统照射曝光用光，将作为第一层的掩模（M）的各图案（P1、P2）单次曝光到多个基板（W1、W2）上。

摘要： 本发明提供可抑制由浸渍液所导致的被曝光基板背面的污染并且可提高被加工膜与其正上方的有机膜的附着性以抑制膜剥离且操作性优良的被曝光基板用防水剂组合物、抗蚀图形的形成方法及通过该形成方法制造的电子器件、被曝光基板的防水处理方法、被曝光基板用防水剂套装以及使用该套装的被曝光基板的防水处理方法。本发明使用被曝光基板用防水剂组合物，该组合物至少包含以下述通式(1)表示的有机硅化合物和溶剂。式中，R