灰色调

摘要： 中国花鸟画的历史悠久绵长,在两宋时期,工笔花鸟画逐渐走上发展高峰期,同时出现了如徐熙、边鸾等诸多专攻花鸟画的著名画家。在传统审美基础之上,工笔花鸟作品开始倾向于灰色调,这不仅是中国绘画进行的一次全新尝试,还是新时期转变绘画观念、更新色彩理念,在创作工笔花鸟画作品时进行合理运用的成功实践。其既能够让工笔花鸟绘画作品的色彩语言得到拓宽,又可以证明在色彩运用上中国画家以继承和发扬前人经典作为重要基础来谋求发展,从而让工笔花鸟作品更具文化内涵。本文主要探讨中国画工笔花鸟创作中灰色调的应用。

摘要： 这块铀矿石如今完好地保存在核工业北京地质研究院院内的中国核地质科技馆。黄灰色调的一块石头普普通通,但却在中国核工业发展历程的宏伟画卷上留有最具魅力的一抹色彩,对于中国核工业乃至中国原子能事业的发展具有十分重要的意义。它的发现,见证了中国核工业的起步与发展,见证了中国核地质事业从无到有、从弱到强的华丽转变。

摘要： “灰色调”语言在绘画创作中是一项重要的表现方式,这里“灰色”并非颜色中的灰颜色,而是指在画面中起到中间色调的灰色部分,具有明度上的色阶关系。在现代木刻版画创作中“灰色调”的表现也是众多艺术家们常用手法之一。木刻版画的属性、创作手法和材料特性的不同决定了木刻版画中“灰色调”的独特性。文章简述了现代木刻版画中的材料属性、木刻版画中的灰色调的艺术特点及“灰色调”语言在木刻版画中的表现形式。

摘要： 我们从未如此期待新一年的到来。鼠年终于画上了句号。过去一年,纺织行业穿越疫情阴霾,经历国际环境演变,在分化与波动中承受着现实压力,在守正与创新中保持着发展定力,在自立与合作中焕发着市场活力,在灰色调的一年中,珍藏下别样收获。牛年终于打开了大门。新的一年,站在"十四五"的起点,我们纺织人满怀信心,在发展与安全、供给与需求、内需与外需的平衡中践行高质量发展,积蓄"牛转乾坤"的能量,共迎纺织牛年!

摘要： 哈默修依是19世纪末20世纪初丹麦重要的绘画艺术家.哈默修依所处的时代充满变革,艺术革命风起云涌,而他没有追逐潮流,在继承传统的基础上遵从自己的内心,走出了一条独特的艺术道路.哈默修依敏感、沉静、羞涩,很少公开发表关于绘画的言论,且去世前焚毁了大部分书信和文字资料,使得我们只能通过作品解读他内心静谧的世界.

摘要： 赵子韬擅长撷取日常生活的片段,将熟悉的情景改变成诗意的图画,在他的画作中,丰富的色相和冷暖对比被抑制在透明的灰色调中,可见而不再有本来的清晰度,其带出的生活情景也随之减弱了它们原有的硬度。此系列作品见证了赵子韬对日常生活图像的再创造的过程,相比于赵子韬过往的人物图像,该作品的人物刻画更加流畅,不拘泥于现实的人物形态而变得具有概括性和抽象性。

摘要： 我小时候住在单位大院,好处是,大家互相有个照应;坏处是,生活被熟人尽收眼底,免不了被人打量、比较和品评。比如我家隔壁的李姨,经常被邻居们挂在嘴边。倒不是她有多特别,相反,她看上去非常普通,个头儿不高,皮肤微黑,头发总是乱乱地扎在脑后,衣服也都是灰色调的,骑——辆破1旧的自行车来来往往,属于最容易被淹没在人海里的那一类人。正因为她如此寻常,她的生活方式,不,应该说消费方式,才让诸位高邻觉得碍眼:她看上去不像个有钱人,也不像一个大手大脚的人,为什么她花钱那么着三不着两呢?

摘要： 早上起来,见地上落了一层薄薄的细雪,才知道夜里下了雪。雪天不冷,雪花也不大,但在家里透过玻璃窗看外面,灰色调里那层薄白,到处朦朦胧胧,尤其美。大自然以生花妙笔,在不知不觉中为我们的世界变换着容颜。

摘要： 作品以具象的齿轮为绘画主体,通过平凡的物象,加以中国传统的水墨浓淡,辅以低调的暖灰色调,运用版画特有的物性转换,表达一种质朴的刚性情思。既运用现代技术手段,又运用传统的笔墨程式,两者互助,托起主体永不放弃的钢铁精神。

摘要： 在现实生活中,有一些老年人,历经几十年的岁月沧桑,面部皱纹如波,皓首如霜,皮肤失去弹性,身板不再硬朗。因而忽视对自己仪态的修饰,头发蓬乱,衣着不整,服饰仍是陈旧的灰色调,因循守旧,墨守成规,失去对美的追求。自认为退休在家,吃饱穿暖就行了,人老珠黄打扮给谁看,因而不愿“俏”、也不敢“俏”。

摘要： 提供一种通过修正透光性基板表面上的凹陷缺陷来防止产生复制图形缺陷及掩模图形缺陷的掩模版用透光性基板、掩模版以及曝光用掩模的制造方法、以及曝光用掩模的缺陷修正方法。在透光性基板1上形成构成复制图形的掩模图形2的曝光用掩模上，用针状件4去除尚未形成掩模图形2的基板表面1a上的足以引起产生复制图形缺陷的透光量下降的凹陷缺陷3的周边部分，实施减少基板表面与凹陷缺陷的深度之间的阶差的修正。此外，在透光性基板上形成掩模图形形成用的薄膜之前的阶段内进行上述凹陷缺陷修正。使用实施了凹陷缺陷修正的透光性基板制造出掩模版、曝光用掩模。

摘要： 提供一种通过修正透光性基板表面上的凹陷缺陷来防止产生复制图形缺陷及掩模图形缺陷的掩模版用透光性基板、掩模版以及曝光用掩模的制造方法、以及曝光用掩模的缺陷修正方法。在透光性基板1上形成构成复制图形的掩模图形2的曝光用掩模上，用针状件4去除尚未形成掩模图形2的基板表面1a上的足以引起产生复制图形缺陷的透光量下降的凹陷缺陷3的周边部分，实施减少基板表面与凹陷缺陷的深度之间的阶差的修正。此外，在透光性基板上形成掩模图形形成用的薄膜之前的阶段内进行上述凹陷缺陷修正。使用实施了凹陷缺陷修正的透光性基板制造出掩模版、曝光用掩模。

摘要： 灰色调掩模坯，其在透明基板上，由具有互不相同的蚀刻特性的膜形成半透光膜和遮光膜，半透光膜及遮光膜在曝光光的波长下的反射率均小于等于30%，形成在比曝光光的波长长的波长侧的规定波长下的半透光膜和遮光膜的反射率差，使其大于在曝光光的波长下的反射率差，并且半透光膜和遮光膜在制成灰色调掩模时，通过从灰色调掩模的正反面的任一侧对半透光部和遮光部照射上述规定波长的光，根据两者的反射率差能识别半透光部和遮光部。即便是在用半透光膜和遮光膜形成制品加工标识和制品信息标识的情况下，也能通过除去遮光膜或半透光膜中任一个的一方的平版印刷工序形成标识，能形成利用规定的读取波长的光，可利用反射光读取的标识。

摘要： 灰色调掩模坯，其在透明基板上，由具有互不相同的蚀刻特性的膜形成半透光膜和遮光膜，半透光膜及遮光膜在曝光光的波长下的反射率均小于等于30％，形成在比曝光光的波长长的波长侧的规定波长下的半透光膜和遮光膜的反射率差，使其大于在曝光光的波长下的反射率差，并且半透光膜和遮光膜在制成灰色调掩模时，通过从灰色调掩模的正反面的任一侧对半透光部和遮光部照射上述规定波长的光，根据两者的反射率差能识别半透光部和遮光部。即便是在用半透光膜和遮光膜形成制品加工标识和制品信息标识的情况下，也能通过除去遮光膜或半透光膜中任一个的一方的平版印刷工序形成标识，能形成利用规定的读取波长的光，可利用反射光读取的标识。

摘要： 本发明的缺陷修正方法具有遮断曝光光线的遮光部、透过曝光光线的透光部、减少曝光光线的透过量的灰色调部的，适用于在被复制体上形成膜厚逐步或连续式变异的抗蚀剂图案的灰色调掩膜。在此缺陷修正方法中，上述灰色调部由半透光膜形成。此缺陷修正方法包括在上述灰色调部中确定发生脱落缺陷的待修正区域的工序，在此待修正区域中形成能用来获得与上述灰色调部中正常灰色调部分有相同灰色调效果的精细图案状的修正用遮光膜的工序。

摘要： 本发明涉及一种灰色调掩模的制造方法以及灰色调掩模、灰色调掩模的检查方法以及图案转印方法，能够定量检查半透光部使用半透光膜的灰色调掩模的制造阶段所能够产生的校准偏差。本发明中，通过在使用至少包含两次描绘工序的构图工序而在形成于透明基板上的膜上形成图案而制造具有遮光部和透光部和半透光部的灰色调掩模，通过第一次描绘工序得到的第一抗蚀剂图案包含第一标志，通过第二次描绘工序得到的第二抗蚀剂图案包括第二标志，测量第一抗蚀剂图案的第一标志或相当于该第一标志的膜图案的边缘和第二抗蚀剂图案的第二标志或相当于该第二标志的膜图案的边缘的距离，来检查该距离是否在规定范围内。

摘要： 本发明提供一种灰色调掩模，具有厚抗蚀剂图形形成部、薄抗蚀剂图形形成部和无抗蚀剂区域形成部，用于具有至少使厚抗蚀剂图形变形的工序的薄膜晶体管基板的制造工序中，半透光部的透射率分布良好，而且与沟道部对应的图形的图形精度良好。在被复制基板上，薄抗蚀剂图形形成部由半透光部构成，厚抗蚀剂图形和无抗蚀剂区域形成部分别由根据在被复制基板上的抗蚀剂是正型还是负型而决定的遮光部或透光部构成，在上述薄膜晶体管基板的制造工序中所使用的灰色调掩模中，半透光部由半透光膜形成，遮光部由遮光膜形成，厚抗蚀剂图形形成部是源电极和漏电极的对置部分，至少在沟道部一侧空出了所希望的裕量区域而被形成。

摘要： 灰色调掩模坯，其在透明基板上，由具有互不相同的蚀刻特性的膜形成半透光膜和遮光膜，半透光膜及遮光膜在曝光光的波长下的反射率均小于等于30%，形成在比曝光光的波长长的波长侧的规定波长下的半透光膜和遮光膜的反射率差，使其大于在曝光光的波长下的反射率差，并且半透光膜和遮光膜在制成灰色调掩模时，通过从灰色调掩模的正反面的任一侧对半透光部和遮光部照射上述规定波长的光，根据两者的反射率差能识别半透光部和遮光部。即便是在用半透光膜和遮光膜形成制品加工标识和制品信息标识的情况下，也能通过除去遮光膜或半透光膜中任一个的一方的平版印刷工序形成标识，能形成利用规定的读取波长的光，可利用反射光读取的标识。

摘要： 本发明提供一种灰色调掩模，其半透光部的透射率分布良好，而且与沟道部对应的图形的图形精度良好。在该灰色调掩模中，在被复制基板上具有用于形成厚抗蚀剂图形、薄抗蚀剂图形和无抗蚀剂区域的厚抗蚀剂图形形成部、薄抗蚀剂图形形成部和无抗蚀剂区域形成部，所述薄抗蚀剂图形形成部由半透光部构成，所述厚抗蚀剂图形形成部由遮光部构成，所述无抗蚀剂区域形成部由透光部构成，其中，在透明基板上，在所述半透光部上形成有半透光膜，在所述遮光部上形成有遮光膜，并且，在所述遮光部与所述透光部的边界部设置有裕量区域，该裕量区域由半透光膜图形形成。

摘要： 灰色调掩模坯，其在透明基板上，由具有互不相同的蚀刻特性的膜形成半透光膜和遮光膜，半透光膜及遮光膜在曝光光的波长下的反射率均小于等于30％，形成在比曝光光的波长长的波长侧的规定波长下的半透光膜和遮光膜的反射率差，使其大于在曝光光的波长下的反射率差，并且半透光膜和遮光膜在制成灰色调掩模时，通过从灰色调掩模的正反面的任一侧对半透光部和遮光部照射上述规定波长的光，根据两者的反射率差能识别半透光部和遮光部。即便是在用半透光膜和遮光膜形成制品加工标识和制品信息标识的情况下，也能通过除去遮光膜或半透光膜中任一个的一方的平版印刷工序形成标识，能形成利用规定的读取波长的光，可利用反射光读取的标识。