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垂直式MOCVD反应器内部湍流热对流的数值模拟与分析

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工程中现有的MOCVD(金属有机化学气相沉积)反应器一般是工作在层流状态,但随着反应器内部压力的提高和晶片尺寸的加大,反应器内部的流动将会转捩为湍流。本文以垂直式冷壁反应器为例,采用大涡模拟(LES)的方法对其内部的流场和温度场进行模拟分析。通过改变Rayleigh数、基片旋转速度及反应器几何尺度等参数来对其进行数值分析和优化。模拟结果发现由热对流引发的湍流增强了传热,由于湍流的混合作用,选择合适的基片旋转速度及几何尺寸,反应器内部很大区域内的传热效率较为一致。对低Ra数和更高Ra数下的反应器内部流动和传热特性进行研究,模拟结果和分析表明了湍流型MOCVD在高Ra数下保持薄膜生长均匀性而显着提高产率的原则可行性。

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来源
《中国力学大会2011暨钱学森诞辰100周年纪念大会》|2011年|1-10|共10页
会议地点哈尔滨
作者
田燕; 李昌烽; 蒋花红; 刘石兵; 李晖; 左然;
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作者单位

中国力学学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类湍流（紊流）;
关键词
金属有机化学气相沉积; 反应器; 湍流热对流; 数值模拟;

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