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X射线反射(XRR)对薄膜样品厚度的研究

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本文介绍X射线粉末衍射仪对一面镀有有机导电薄膜的单晶硅片的研究，用X射线全反射(XRR)可以精确地测量平整光滑基底材料上薄膜的厚度和多层薄膜的厚度，其绝对误差可＜1nm，即精度优于1nm。说明该方法可适用于绝大多数镀层材料镀层薄膜厚度的测定。与其它测定薄膜厚度方法比较，该方法具有简单、有效、无损、经济的特点。

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来源
《帕纳科第11届用户X射线分析仪器技术交流会》|2010年|84-88|共5页
会议地点西宁
作者
Yu Jishun; 于吉顺; Lu Qi; 陆琦; Xiao Ping; 肖平; Zhang Jinhua; 张锦化;
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作者单位

帕纳科中国用户X射线分析仪器技术交流会组委会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类 TB383:TB303;
关键词
薄膜材料; X射线反射; 厚度测定; 结构表征;

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