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氧、氩分压对直流反应溅射制备ZAO薄膜的性能影响

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采用直流反应磁控溅射技术，制备获得ZAO薄膜，研究氧分压、氩分压关键制备工艺参数对ZAO薄膜的组织结构、光、电性能的影响，并获得了最佳的氧、氩分压制备参数，利用该参数制备ZAO薄膜，能够获得在可见光范围内的平均透射率>85％，最低电阻率为4.5×10-4Ωcm的ZAO薄膜，其光电性能均满足应用需求.

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来源
《第九届全国光电技术学术交流会》|2010年|7-10|共4页
会议地点北京
作者
陆峰; 徐成海; 闻立时; 吴玉厚;
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作者单位

中国宇航学会;

中国航空学会;

中国兵工学会;

中国光学学会;

中国电子学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类溅射;
关键词
ZAO薄膜; 直流反应溅射; 氧分压; 氩分压;

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