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电子束光刻加工圆形阵列图形的新方法

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利用高斯型束斑/矢量扫描式电子束曝光机的工作模式特点,通过设计特定的矩形线条,设置特定的扫描步长以及曝光剂量,得到了多种不同直径(20～60nm),不同间距(50～100nm)的圆孔状纳米阵列,图形与图形之间最小间隙小至10nm。该工艺方法最大的优势在于,与传统直接加工的圆形阵列相比,整个流程中不需要使用圆弧状图形数据,使其在数据处理方面花费的时间会大大缩短。

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来源
《第十六届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议》|2010年|155-158|共4页
会议地点西安
作者
时文华;
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作者单位

中国电子学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类光刻、掩膜;
关键词
电子束光刻; 圆孔阵列; 圆柱阵列;

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