近场条件下抑制电磁干扰的屏蔽技术

著录项

• 来源
  《四川省电子学会电子测量与仪器专委会2005年学术年会(第十二届)》|2005年|37-40|共4页
• 会议地点 四川绵阳
• 作者

  董新纲; 姚永和;

  展开▼
• 作者单位

  四川省电子学会;

  中国电子学会;

  展开▼
• 会议组织
• 正文语种
• 原文格式 PDF
• 中图分类 结构;屏蔽与去耦电路;
• 关键词

  电磁干扰; 电磁屏蔽; 屏蔽效能; 电磁干扰抑制; 吸收损耗; 反射损耗; 电子设备;