O<,2>气流量对LP-MOCVD法生长的ZnO薄膜性质的影响

著录项

• 来源
  《中国有色金属学会第八届全国MOCVD学术会议》|2003年|74-74|共1页
• 会议地点 牡丹江
• 作者

  马艳; 杜国同; 杨树人; 李正庭; 李万成; 杨天鹏; 杨洪军; 张源涛; 杨小天; 赵佰军; 刘博阳; 刘大力; 姜秀英;

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• 作者单位

  中国有色金属学会;

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• 会议组织
• 正文语种
• 原文格式 PDF
• 中图分类 TN304.21;TN304.055;
• 关键词

  ZnO薄膜; LP-MOCVD; PL谱; 金属有机化学气相淀积; 表面形貌; 光致发光谱;