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李雯; 谭智敏; 薛昕; 刘理天;
中国仪器仪表学会;
紫外厚胶光刻; 电感; 三维微机械电感; 光刻胶;
机译:先进的掩模对准仪光刻技术(AMALITH)用于厚光刻胶
机译:离子交联纳米光刻技术,使用厚交联的聚(甲基丙烯酸甲酯)950光刻胶
机译:ELID研磨和厚光刻胶光刻技术制备多层微结构的研究
机译:使用单层光刻胶和极紫外光刻技术对多晶硅中100 nm以下特征进行图案转换
机译:研究非晶态三硫化二砷中的银光掺杂机理,以及碲化银-三硫化二砷体系作为无机光刻胶的亚微米光学和深紫外光刻技术的潜力
机译:SU-8厚光刻胶紫外光刻工艺的综合模拟
机译:软紫外纳米压印光刻技术制备的等离子纳米结构及其在生物传感中的应用
机译:远(深)紫外高强度激光(准分子)辐射脉冲在聚合物中的孔形成(蚀刻)及其与聚合物深紫外光解中光刻胶的相关性
机译:具有厚垂直壁的光刻胶图案的微光刻技术
机译:紫外光产生装置及其在极端紫外光的辐射光刻技术中的应用
机译:具有改进的极紫外光刻技术的光刻胶
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