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李雯; 谭智敏; 薛昕; 刘理天;
北京大学;
中国电子科技集团公司;
机译:先进的掩模对准仪光刻技术(AMALITH)用于厚光刻胶
机译:离子交联纳米光刻技术,使用厚交联的聚(甲基丙烯酸甲酯)950光刻胶
机译:ELID研磨和厚光刻胶光刻技术制备多层微结构的研究
机译:使用厚光刻胶的3D光刻技术新颖地制作电镀3D微线圈
机译:精密准分子激光光刻技术,用于带有厚光刻胶的圆柱形基板。
机译:SU-8光刻胶的185 nm扩散光光刻技术原型制作的具有轴突分离的微流体长期梯度发生器
机译:1薄膜坡莫合金薄膜(10nm厚和30-200nm宽)纳米接触的磁电阻通过电子束光刻技术制造。
机译:应力混合有限元模型的弹塑性分析研究及应用于革命的厚壳
机译:具有厚垂直壁的光刻胶图案的微光刻技术
机译:用于200 NM或更少紫外线的紫外线曝光的光刻技术用药盒
机译:紫外线可固化的压敏胶组合物,紫外线可固化的压敏胶板及其制备方法
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