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接近式光刻中嵌入式掩模改善光刻分辨率的模拟与分析

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本文根据菲涅尔-基尔霍夫衍射公式对EAM技术进行了模拟计算,推导出了采用EAM技术时硅片表面的光强分布,分析了EAM技术的实用条件及改善光刻分辨率的效果和应用前景.

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来源
《第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会》|2001年|201-203|共3页
会议地点成都
作者
赵永凯; 黄惠杰; 路敦武; 杜龙龙; 杨良民; 袁才来; 蒋宝财; 王润文;
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作者单位

中国电子学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类光刻、掩膜;
关键词
嵌入式振幅掩模; 接近式光刻; 光刻分辨率; 基尔霍夫衍射定理;

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