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采用Levenson相移掩模的KrF准分子激光投影光刻工艺研究

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本文介绍我们把相移掩模光刻技术和准分子激光光刻技术结合起来进行的进一步提高光刻分辨力,扩展光学光刻极限的研究.包括Levenson相移掩模的制作工艺,KrF准分子激光缩小投影曝光光刻实验系统的建立,以及采用制作的相移掩模在实验系统上进行光刻曝光的工艺.并对采用相移掩模和采用普通掩模的实验结果进行了对比,得出了采用相移掩模后能够显著提高准分子激光投影光刻分辨力的结果.

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来源
《全国光电技术学术交流会》|2000年|437-441|共5页
会议地点广西北海
作者
侯德胜; 孙方; 冯伯儒; 张锦;
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作者单位

中国宇航学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类光刻、掩膜;
关键词
相移掩模; 准分子激光; 光刻工艺;

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