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优质单晶硅P<'+>薄层的制备

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研究了正面高能Ar<'+>注入的吸杂行为。

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来源
《第六届全国固体薄膜学术会议》|1998年|27-29|共3页
会议地点成都
作者
周继承;
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作者单位

中国电子学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类 TN304.055;
关键词
Ar'+注入;

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