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对高Al组分AlGaAs表面GaAs薄膜的选择性腐蚀

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由GaAs和高Al组分Al、Ga1-xAS（x=0.8~0.9）构成的异质薄膜体系是许多光电器件中的常规结构。对该异质结构的GaAs和AlGaAs的选择性腐蚀工艺是器件制备过程中的一道关键工序。该文针对传统腐蚀工艺中出现的腐蚀后裸露的AlGaAs表面彩色化的问题，进行了深入系统的研究，得到了较为满意的氨水-双氧水-磷酸（NH、OH-H2O2-H3PO4）新配方属蚀液体系。这种腐蚀液体系不仅可在较宽的溶液浓度范围内实现对高Al组分GaAs/alGaAS异质结构的选择性腐蚀，而且也不会对裸露的AiGaAs外观产生明显影响。最后，该文还对腐蚀机理作了初步探索。

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来源
《全国化合物半导体、微波器件和光电器件学术会议》|1998年|93-94|共2页
会议地点宜昌
作者
公延宁; 汪乐;
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作者单位

中国电子学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类微电子学、集成电路（IC）;
关键词
高Al组分; 选择性腐蚀;

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