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激光刻划对NIP非晶硅太阳电池有源层的影响

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采用不同功率532nm波长激光刻蚀柔性非晶硅薄膜太阳电池的P3刻线,并利用共焦显微拉曼光谱仪对其进行了分析.测得的拉曼光谱显示,非晶硅晶化率自P3刻线表面至非晶硅与背反射电极界面处依次递减.采用5.86×105～1.14×106w/cm2内数个不同激光功率密度刻蚀P3,非晶硅表面至底部的晶化率随刻蚀激光能量密度的增大均迅速变大;当激光功率大于7.32×105W/cm2时,非晶硅表面的晶化率小幅降低,而非晶硅底部小幅增长,总体保持在80％～95％的范围内.

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来源
《第13届中国光伏大会》|2013年|374-379|共6页
会议地点北京
作者
焦小雨; 陈亮; 马宁华; 陈臻纯; 刘成;
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作者单位

中国可再生能源学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类 TM914.41:TM910.5;
关键词
非晶硅太阳电池; 激光刻蚀工艺; 有源层结构; 拉曼光谱;

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