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BTA对Co的化学机械抛光作用研究

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本文研究了常用抑制剂BTA对CoCMP的作用.在含H2O2的抛光液中,BTA对Co表现出螯合以及抑制的双重作用:当BTA浓度或者Co离子浓度低时,由于BTA可以和Co离子发生螯合反应,因而促进Co氧化为Co2+离子,增大Co的腐蚀速率以及抛光速率,BTA此时表现为螯合剂.而当BTA与Co2+离子浓度足够高,两者不溶于水的反应产物BTA-Co充足到可以覆盖Co片表面时,则能隔离Co与化学溶液的接触,达到抑制Co的腐蚀与抛光的目的.

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来源
《2013年海峡两岸平坦化技术研讨会》|2013年|42-46|共5页
会议地点天津
作者
鲁海生; 曾旭; 徐敬博; 徐文忠; 王敬轩; 屈新萍;
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作者单位

中国机械工程学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类金属电抛光及化学抛光;
关键词
钴金属; 化学机械抛光工艺; 苯并三氮唑; 效果评估;

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