亚硝酸钠对7003铝合金化学机械抛光作用的影响研究

闵鹏飞; 中亚男; 卞达; 倪自峰; 赵永武

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亚硝酸钠对7003铝合金化学机械抛光作用的影响研究

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在碱性抛光液条件下,研究了氧化型缓蚀剂亚硝酸钠(NaNO2)对7003铝合金化学机械抛光(CMP)粗抛作用的影响机制.通过静态腐蚀试验及电化学实验分析了NaNO2对铝合金的缓蚀效果,并在此基础上研究了NaNO2的含量及pH值对铝合金CMP过程的作用机制,并对抛光后的材料去除率和表面粗糙度进行了分析.研究结果表明,在以过氧化氢为氧化剂的碱性抛光液条件下,当NaNO2的含量为0.5％时,能够有效促进铝合金表面氧化膜的形成,抑制铝合金在抛光过程中腐蚀速度,其缓蚀率为87.41％;NaNO2的加入,虽然降低了材料去除率,但提高了铝合金抛光后的表面质量.同时,发现抛光液的pH值对材料去除率影响较大,分析得,当pH=10时,抛光后的材料去除率最大,同时能够获得良好的表面形貌.

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来源
《组合机床与自动化加工技术》 |2016年第8期|16-18|共3页
作者
闵鹏飞; 中亚男; 卞达; 倪自峰; 赵永武;
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作者单位

江南大学机械工程学院,江苏无锡214122;

江南大学机械工程学院,江苏无锡214122;

江南大学机械工程学院,江苏无锡214122;

江南大学机械工程学院,江苏无锡214122;

江南大学机械工程学院,江苏无锡214122;

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正文语种 chi
中图分类金属材料;有色金属及其合金;
关键词
铝合金; 化学机械抛光; 缓蚀剂; 表面形貌;

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