首页> 中文会议>中国电子学会真空电子学分会第十八届学术年会暨军用微波管研讨会 >离子束溅射无氧铜表面锥形形貌的形成机理分析

离子束溅射无氧铜表面锥形形貌的形成机理分析

页面导航

摘要
著录项
相似文献
相关主题

摘要

本文研究了Ar离子束溅射的无氧铜表面形貌特征及工艺影响因素，从Mo原子的作用、基底温度及表面晶粒结晶方位等方面对表面形貌的形成机理进行了初步分析和研究。

著录项

来源
《中国电子学会真空电子学分会第十八届学术年会暨军用微波管研讨会》|2011年|883-886|共4页
会议地点张家界
作者
赵世柯; 刘腊梅; 徐长有;
展开▼
作者单位

中国电子学会真空电子学分会;

展开▼
会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类溅射;
关键词
离子束溅射技术; 无氧铜; 表面形貌; 机理分析;

相似文献

中文文献
外文文献
专利

1. 离子束溅射生长Ge纳米薄膜的表面形貌观察 [J] . 杨杰 ,王茺 ,欧阳焜 . 功能材料 . 2009,第001期
2. 无氧铜超精加工表面微观形貌的分形维数表征∗ [J] . 杨洋 ,王罡 ,俞建超 . 材料导报 . 2017,第003期
3. 锥形套表面缺陷微观形貌的白光相移干涉重构及显著性检测 [J] . 陈利 ,董勇 . 机械 . 2021,第001期
4. 旋轮进给率对小锥角锥形件表面形貌及显微组织的影响 [J] . 蔡圳武 ,詹艳然 . 精密成形工程 . 2019,第003期
5. 模具钢球头铣削加工表面微凹坑形貌形成机理及摩擦特性研究 [J] . 郝君 ,吴建华 . 模具工业 . 2021,第10期
6. 后处理工艺对离子束改性无氧铜表面形貌及二次电子发射的影响 [C] . 赵世柯 ,刘腊梅 . 2012全国荷电粒子源、粒子束学术会议 . 2012
7. 离子束溅射下硅表面形貌的研究 [A] . 李维卿 . 2005

获取原文

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

客服微信
服务号