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铁电/氮化镓异质结构基本物理参数与性能模拟

摘要

随着近年来铁电薄膜技术的发展,不仅使铁电薄膜在半导体衬底上集成—— 集成铁电器件成为现实,更令人期待的是,由于铁电材料的多功能性,将有可能使铁电材料的特性与半导体特性发生耦合,从而提高半导体性能甚至诱导新效应的产生。

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