首页> 中文会议>第12届中国光伏大会暨国际光伏展览会（CPVC12） >不同功率下氦稀释对微晶硅锗薄膜特性的影响

不同功率下氦稀释对微晶硅锗薄膜特性的影响

页面导航

摘要
著录项
相似文献
相关主题

摘要

本文采用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)技术,在200oC的衬底温度下,以SiH4和GeH4 为反应气体,H2和He 为稀释气体,制备μc-Si1-xGex:H 薄膜.我们分析了不同功率条件下(60W,100W),不通流量He的掺入对μc-Si1-xGex:H 薄膜(Ge 含量~40%)特性的不同影响.结果表明,在适当的CHe/H2=He/H2 比例下,薄膜的晶化率和Ge 含量基本不变,光敏性提高,微结构因子减小,Ge 悬挂键减少,致密度提高,材料质量得到了明显的改善.

著录项

来源
《第12届中国光伏大会暨国际光伏展览会（CPVC12）》|2012年|1-7|共7页
会议地点北京
作者
李天微; 张建军; 曹宇; 倪牮; 黄振华; 马俊; 赵颖;
展开▼
作者单位

中国可再生能源学会;

中科院;

展开▼
会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类特种结构材料;
关键词
微晶硅锗薄膜; 等离子体增强化学气相沉积; 晶化率; 光敏性;

相似文献

中文文献
外文文献
专利

1. 氢氦共同稀释对微晶硅锗薄膜结构特性的影响 [J] . 李天微 ,张建军 ,曹宇 . 人工晶体学报 . 2013,第12期
2. 氢稀释比对磁控溅射低温(100 ℃)沉积氢化微晶硅薄膜微结构特性的影响 [J] . 王林青 ,周永涛 ,王军军 . 中南大学学报 . 2019,第010期
3. 等离子体射频功率对微晶硅薄膜微结构及其特性影响 [J] . 张林睿 ,周炳卿 ,张丽丽 . 人工晶体学报 . 2013,第3期
4. VHF-PECVD制备不同氢稀释条件下硅薄膜特性分析 [J] . 张晓丹 ,高艳涛 ,赵颖 . 人工晶体学报 . 2005,第1期
5. 不同气压下放电功率对微晶硅薄膜生长特性的影响 [C] . 陈永生 ,陈喜平 ,郝秀利 . 第13届中国光伏大会 . 2013
6. 氢化微晶硅锗薄膜的微结构及光电特性的研究与优化 [A] . 李天微 . 2014

不同功率下氦稀释对微晶硅锗薄膜特性的影响

摘要

著录项

相似文献

相关主题

期刊订阅