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Rudai Quan; 全汝岱; Xin He; 贺欣; Hongbin Pu; 蒲红斌; Zhiming Chen; 陈治明;
中国电子学会;
半导体材料; 碳化硅衬底; 异质结薄膜; 制备工艺; 性能评价;
机译:在6H-SiC衬底上并排生产的外延3C和6H-SiC p-n结二极管的电学性能
机译:6H-SiC衬底上分子束外延生长的β-Nb_2N薄膜和AlN /β-Nb_2N异质结的表征
机译:热壁化学气相沉积制备Si / 6H-SiC异质结的结构和光电特性
机译:半绝缘6H-SiC衬底上的2.4kV GaN极化超结肖特基势垒二极管
机译:微金属应用中通过金属有机气相外延生长在6H-SiC(0001)衬底上的GaN和AlGaN的生长,掺杂和表征。
机译:脉冲激光沉积制备6H-SiC(0001)衬底上VO2薄膜的增强的相变特性
机译:6H-SiC衬底上n-ZnO / p-AlGaN异质结发光二极管的制备与表征
机译:通过受主注入到n型衬底中,在6H-siC中形成p-N结
机译:绝缘或半绝缘的6H-SiC基板上实现的SiC半导体器件及其制造方法
机译:高纯6H-SIC单晶生长的方法和装置
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