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掩模传输预对准光学系统及其关键问题

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提出与传统四象限光电准直系统不同的光刻掩模传输预对准光学系统的设计。该系统采用两组四象限对准系统，其中四象限与激光器位置均固定。当激光光束透过掩模版上两个米字形对准标记所形成的米字形光斑分别与两个四象限中心对中时(即四象限输出信号经四象限加减信号调理电路处理之后，输出信号为零时)，掩模版即处于对准位置。讨论了预对准光学系统中的关键问题：部件四象限的分辨率，四象限与激光器的选型等。该新型预对准光学系统的设计及其相关问题的讨论为四象限光电系统的设计提供了有益的参考。

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来源
《第七届全国技术过程故障诊断与安全性学术会议》|2011年|213-217|共5页
会议地点南京
作者
王秀青; 曾慧; 谭民; 吕锋;
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作者单位

中国自动化学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类半导体光电器件;光刻、掩膜;
关键词
掩模传输预对准光学系统; 四象限; 激光器; 分辨率;

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