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SU-8扩散片光刻工艺研究

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摘要

基于标准的接触式光刻工艺，利用扩散片将平行照射的紫外光散射，制备了宽度为4μm～15μm的凹槽，具有半圆弧、双圆弧以及工形等截面结构和良好的形貌。详细研究了曝光时间和凹槽宽度对凹槽截面形态的影响。给出了不同横截面图形的制备工艺参数。

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来源
《第七届全国塑料光纤与聚合物光子学会议》|2011年|45-49|共5页
会议地点合肥
作者
李若舟; 张彤; 张晓阳; 朱圣清; 李威; 杨代旭; 屈蓓蓓;
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作者单位

中国光学学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类 TN491:TN405.7;
关键词
光刻工艺; 集成光电子器件; 扩散片; SU-8光刻胶; 工艺参数;

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