Department of Materials Science and Engineering, Kwangju Institute of Science and Technology (K-JIST), Gwangju 500-712, Korea;
机译:Si,GaN和蓝宝石衬底上ZnO纳米线的无催化剂热蒸发生长和光学性质
机译:在GaN /蓝宝石衬底上生长的ZnO纳米线的生长习惯和缺陷
机译:使用化学剥离和室温直接晶片键合以及GaN晶片规模在ZnO缓冲蓝宝石上进行GaN晶片规模的MOVPE生长,从蓝宝石转移到玻璃基板的MOVPE GaN薄膜的结构和成分表征
机译:ZnO纳米线在硅,蓝宝石和GaN衬底上的生长特性
机译:一维硅纳米线的细胞响应以及在纳米线生长之前用氢氟酸蚀刻硅(111)基板的效果。
机译:通过脉冲激光沉积朝向垂直于硅和玻璃基板表面的自催化ZnO纳米线的生长
机译:通过pLD在图案化的蓝宝石衬底上选择性生长倾斜的ZnO纳米针和纳米线
机译:在(00-1)蓝宝石,(100)和(111)硅衬底上生长的高质量aIN和GaN外延层