【24h】

High Frequency InGaAs Nanowire MOSFETs

机译:高频InGaAs纳米线MOSFET

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摘要

We present compact modeling, DC and RF characterization of lateral and vertical nanowire MOSFETs. Lateral tri-gate nanowire devices on InP substrates have demonstrated a maximum g=2.95 mS/μm at V=0.5 V, and f/f=290/350 GHz. Vertical gate-all-around InAs wires integrated on Si substrates have demonstrated g=1.35 mS/μm and f/f=100/155 GHz. We also demonstrate a non-parabolic, ballistic charge/current compact model for rectangular nanowire FETs.
机译:我们介绍了横向和垂直纳米线MOSFET的紧凑建模,DC和RF表征。 InP衬底上的横向三栅纳米线器件在V = 0.5 V和f / f = 290/350 GHz时显示出最大g = 2.95 mS /μm。集成在Si基板上的垂直环绕InAs导线显示出g = 1.35 mS /μm和f / f = 100/155 GHz。我们还演示了用于矩形纳米线FET的非抛物线弹道电荷/电流紧凑模型。

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