LSI/PSI/USP, University of Sao Paulo, Sao Paulo, Brazil;
LSI/PSI/USP, University of Sao Paulo, Sao Paulo, Brazil;
LSI/PSI/USP, University of Sao Paulo, Sao Paulo, Brazil;
imec, Leuven, Belgium;
imec, Leuven, Belgium;
LSI/PSI/USP, University of Sao Paulo, Sao Paulo, Brazil;
Logic gates; MOSFET; Electric fields; Threshold voltage; Silicon; Leakage currents; Performance evaluation;
机译:SOI nMOSFET亚阈值斜率中的过渡区和累积层效应及其对界面陷阱密度提取的影响
机译:部分耗尽型SOI NMOSFET,在凹陷的沟道区上形成自对准多晶硅栅极
机译:衬底对增强型SOI nMOSFET有效沟道长度和77 K时串联电阻提取的影响分析
机译:具有不同通道长度和硅厚度的UTBOX和UTBB SOI NMOSFET的亚阈值区域分析
机译:完全耗尽的Δ沟道SOI NMOSFET的实现
机译:通过改变磷脂和亲水性合成通道链的长度动态评估双层厚度。
机译:完全耗尽的UTBOX绝缘体上硅nMOSFET的低频噪声研究的经验教训