IMR,Tohoku University,Katahira,Sendai 980-8577,Japan;
Polytechnic University,Sagamihara,Kanagawa 252-5196,Japan;
Saitama Prefectural Okubo Water Filtration Plant,Saitama 338-0814,Japan;
IMR,Tohoku University,Katahira,Sendai 980-8577,Japan;
magnetoelectrodeposition; chirality; MHD effect; micro-electrode; copper;
机译:氯化物添加剂在磁电化学蚀刻中的手性对称性破坏
机译:磁电刻蚀法制备铜薄膜的手性表面
机译:磁电蚀刻中的手性催化活性
机译:探索高磁电化学手性
机译:使用改良的离子阱质谱仪探索各种手性催化剂的不对称环境:致力于快速手性催化剂筛选方法的发展。
机译:氯化物添加剂在磁电化学蚀刻中的手性对称性破坏
机译:氯离子添加剂对磁电化学腐蚀中手性对称性的破坏