Nano Science Research Center, Dai Nippon Printing Co., Ltd., 1-3, Midorigahara 1-chome, Tsukuba-shi, Ibaraki 300-2646, Japan;
molecular resist; calix4resorcinarene derivative; e-beam lithography; dissolution rate;
机译:基于富勒烯衍生物的新型正离子分子抗蚀剂在极端紫外光刻中的应用
机译:基于多酚衍生物的新型负性分子抗蚀剂用于极端紫外光刻
机译:电子束光刻中基于胆酸盐衍生物的分子抗蚀剂
机译:基于CALIX 4间苯二酚衍生物的分子致抗EB光刻
机译:用于高级光刻的分子抗蚀剂-设计,合成,表征和模拟。
机译:基于电阻分压器的原型宽带电压传感器的设计与表征
机译:极端紫外线光刻中的随机:研究微观抗蚀剂对金属氧化物的抗蚀剂的作用
机译:基于第14族元素的环戊二烯基衍生物的合成铟(I)衍生物的试剂。 In(C5H4sime3)的晶体和分子结构。