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首页> 外文会议>Conference on Optical Microlithography XV Pt.2, Mar 5-8, 2002, Santa Clara, USA >Image enhancement through square illumination shaping
【24h】

Image enhancement through square illumination shaping

机译：通过方形照明整形增强图像

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Optical imaging is traditionally carried out using circular pupils, assuring the absence of orientation dependency. In the case of IC microlithography however, such dependency exists and is generally limited to orthogonal axes. We have previously reported the potential improvement to lithographic imaging through the use of a square character to an illumination pupil using fully open pupils, square rings, and slot shapes. In this paper we show lithographic results for this shaping at 193nm using a full field (ASML) imaging tool. Results show improvement in both DOF and exposure latitude over conventional circular shaping, leading to the consideration of this approach as a manufacturable method of resolution enhancement.
机译：光学成像传统上是使用圆形光瞳进行的，以确保不存在方向依赖性。然而，在IC微光刻的情况下，这种依赖性存在并且通常限于正交轴。我们之前曾报道过，通过对全开光瞳，方环和狭缝形状使用照明光瞳使用方形字符，可以改善光刻成像的潜力。在本文中，我们显示了使用全场（ASML）成像工具在193nm处进行整形的光刻结果。结果表明，与传统的圆形成型相比，自由度和曝光范围都得到了改善，这导致人们将该方法视为可制造的分辨率增强方法。

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