Komatsu Ltd., Research Division Hiratsuka-shi, Kanagawa 254-8567, Japan;
机译:F2激光激发VUV光学材料时的原位透射和LIF测量
机译:UV和VUV准分子激光器窗户的光学材料的抗辐射性
机译:作为VUV到UV固态激光材料的LiCaAlF6和LiSrAlF6晶体的电子和光学性质的第一性原理计算
机译:用于F_2激光器的VUV光学材料的原位测量
机译:VUV / UV辐射与二氧化硅的相互作用:走向下一代157 nm光学光刻材料。
机译:III型Ce3 +:KGd(PO3)4的VUV-UV同步加速器激发下的单晶生长光吸收和发光特性一种有希望的闪烁体材料
机译:利用浊度传感器,原位激光散射型粒子分布测量装置和日本山羊海岸原位激光散射型粒子分布测量装置和声学测量仪的终边界层悬浮颗粒材料的现场测量
机译:高能电子辐照过程中光学材料Uv和Vuv透射率的测量