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首页> 外文会议>Conference on Optical Microlithography XV Pt.2, Mar 5-8, 2002, Santa Clara, USA >Development of low-loss optical coatings for 157nm lithography
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Development of low-loss optical coatings for 157nm lithography

机译：开发用于157nm光刻的低损耗光学涂料

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In the F_2 laser lithography, it is essential to reduce the loss of the optical coatings deposited on calcium fluoride lenses. to order to make low loss optical coatings, we have developed measurement apparatus, evaluated the coatings with various analyses, and found a correlation with the optical constants. In this paper we describe the optical loss measurement apparatus and the evaluation results analyzed for either single layer coatings or multi-layer anti-reflection coatings.
机译：在F_2激光光刻中，必须减少沉积在氟化钙透镜上的光学涂层的损失。为了制造低损耗的光学镀膜，我们开发了测量设备，通过各种分析评估了镀膜，并发现了与光学常数的相关性。在本文中，我们描述了光损耗测量设备以及对单层涂层或多层抗反射涂层进行评估的评估结果。

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