首页> 外文会议>Conference on Optical Microlithography XVII pt.2; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US >Novel methodology for photo condition optimization through simulation
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Novel methodology for photo condition optimization through simulation

机译:通过仿真优化照片条件的新方法

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摘要

In photo process development, simulation plays a very important role to optimize the photo condition prior to exposure wafers. In this report we would address a systematic methodology to accelerate the photo condition optimization through simulation with the aids of statistical methods. Moreover, this systematic methodology could also be used in any experiment design and emerges as a feasibility of automatic process optimization.
机译:在光工艺开发中,模拟在优化曝光晶片之前的光条件方面起着非常重要的作用。在本报告中,我们将介绍一种系统的方法,以借助统计方法通过仿真来加速照片条件的优化。而且,这种系统的方法学也可以用于任何实验设计中,并作为自动过程优化的可行性而出现。

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