Nikon Projection Lens Update

机译：尼康投影镜头更新

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This paper describes various kinds of technological improvements in ArF projection lenses for success in very low-ki and high NA lithography. This paper covers optical design, lens manufacturing, aberration characterization, aberration manipulation, flare control, and linear polarizing illumination. Actual lens performance of the Nikon NSR-S307E (0.85NAArF Optics) is also reviewed.

机译：本文介绍了ArF投影透镜的各种技术改进，以成功实现超低光子和高NA光刻。本文涵盖了光学设计，透镜制造，像差表征，像差操纵，眩光控制和线性偏振照明。还对尼康NSR-S307E（0.85NAArF光学元件）的实际镜头性能进行了评估。

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来源
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.2; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》|2004年|P.730-741|共12页
会议地点 Santa Clara CA(US)
作者
Tomoyuki Matsuyama; Toshiro Ishiyama; Yasuhiro Ohmura;
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作者单位

Precision Equipment Company, Nikon Corporation, Kumagaya, Saitama 360-8559, Japan;

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会议组织
原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类石版印刷;应用光学;
关键词
low-k_1 lithography; ArF projection lens; high NA; aberration; flare; linear polarized illumination;

机译：低k_1光刻； ArF投影透镜；高NA；像差；光斑；线性偏振照明;

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