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Nikon Projection Lens Update

机译:尼康投影镜头更新

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摘要

This paper describes various kinds of technological improvements in ArF projection lenses for success in very low-ki and high NA lithography. This paper covers optical design, lens manufacturing, aberration characterization, aberration manipulation, flare control, and linear polarizing illumination. Actual lens performance of the Nikon NSR-S307E (0.85NAArF Optics) is also reviewed.
机译:本文介绍了ARF投影镜片中的各种技术改进,用于在非常低ki和高Na光刻中成功。本文涵盖光学设计,透镜制造,像差表征,像差操纵,眩光控制和线性偏振光照明。还审查了尼康NSR-S307E(0.85naarf光学元件)的实际镜头性能。

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