Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association (EUVA) Hiratsuka Research Development Center, 1200 Manda, Hiratsuka, 254-8567 Japan;
EUV emission; laser-produced plasma; solid target; plasma emission;
机译:激光生产的镝,铒和鳞片等离子体软X射线发射光谱分析
机译:不透明性对激光产生的等离子体中高电荷镧系离子对软X射线光谱的影响
机译:激光产生的高电荷铂等离子体的软X射线发射特性
机译:用于EUV和软X射线源的激光产生的等离子体的发射光谱
机译:Nd:YAG和CO2激光产生的锡等离子体的发射特性,可用于极端紫外光刻源的开发。
机译:使用紧凑型激光等离子体软X射线源的2 axialnm轴向分辨率的光学相干断层扫描(OCT)
机译:激光产生的重离子等离子体作为高效的软X射线源
机译:高级源开发和应用。激光产生的等离子体:具有高峰值亮度的紧凑型软X射线源。