首页> 中国专利> 激光产生等离子体EUV光源中的源材料输送的设备和方法

激光产生等离子体EUV光源中的源材料输送的设备和方法

页面导航

摘要
著录项
法律信息
相似文献

摘要

公开了气体被引起与源材料的流动平行地流动以形成气体罩的装置和方法。气体罩可以保护源材料的流动以免被气体的横流破坏。气体罩还可以通过使源材料的辐照期间所形成的等离子体泡变形使得等离子体泡不会太接近物理罩来限制源材料所通过的物理罩的发热并且限制源材料在物理罩上的积聚。装置和方法还公开用于建立气体的附加横穿流动，使得气体罩不会引起用于收集源材料的辐照期间所生成的光的光学器件的源材料污染。

著录项

公开/公告号CN105981482B

专利类型发明专利
公开/公告日2019-04-12

原文格式PDF
申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;
展开▼

申请/专利号CN201480065547.8
发明设计人 D·R·埃文斯;M·R·格拉哈姆;A·I·厄肖夫;
展开▼

申请日2014-11-06
分类号
代理机构北京市金杜律师事务所;
代理人王茂华
地址荷兰维德霍温
入库时间 2022-08-23 10:29:21

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2019-04-12

授权

授权
2017-01-04

实质审查的生效 IPC(主分类):H05G2/00 申请日:20141106

实质审查的生效
2017-01-04

实质审查的生效 IPC(主分类):H05G 2/00 申请日:20141106

实质审查的生效
2016-09-28

公开

公开
2016-09-28

公开

公开

相似文献

专利
中文文献
外文文献

1. 激光产生等离子体EUV光源中的源材料输送的设备和方法 [P] . 中国专利： CN105981482B . 2019.04.12
2. 激光产生等离子体EUV光源中的源材料输送的设备和方法 [P] . 中国专利： CN105981482A . 2016-09-28
3. Apparatus and method for source material delivery in laser produced plasma EUV light source [P] . 日本专利： JP2019012293A . 2019-01-24

机译：用于在激光产生的等离子体EUV光源中输送源材料的设备和方法
4. Apparatus for and method of source material delivery in a laser produced plasma EUV light source [P] . 美国专利： US10681795B2 . 2020-06-09

机译：用于在激光产生的等离子体EUV光源中进行源材料输送的设备和方法
5. Apparatus for and method of source material delivery in a laser produced plasma EUV light source [P] . 美国专利： US10237960B2 . 2019-03-19

机译：用于在激光产生的等离子体EUV光源中进行源材料输送的设备和方法