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Design level variability analysis and parametric yield improvement methodology

机译:设计级变异性分析和参数化产量改进方法

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摘要

With the transition to the 32/28 nm platform parameter variations of device and circuit parameters are becomingincreasingly important for performance, reliability and yield. Based on a sensitivity analysis, the paper compares theimpact of lithography and
机译:随着向32/28 nm平台参数的转变,器件和电路参数的变化对于性能,可靠性和成品率变得越来越重要。在敏感性分析的基础上,本文比较了光刻技术和

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