• 主题
高级搜索  >
历史搜索 清空历史
首页> 外文会议>Design and Process Integration for Microelectronic Manufacturing II >Improved manufacturability by OPC based on defocus data
【24h】

Improved manufacturability by OPC based on defocus data

机译：OPC基于散焦数据改善了可制造性

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
页面导航
  • 摘要
  • 著录项
  • 相似文献
  • 相关主题

摘要

The paper describes the advantages of optical proximity correction (OPC) based on defocus data instead of best focus data. By additionally accepting asymmetric variations of the dimension of different patterns e.g. for an isolated line that can become wider than its nominal width this method can deliver structures much more robust against opens and shorts than in the standard OPC approach which is based on data taken at best process conditions. The differences of both OPC methods are compared based on simulations and checked against experimental data of characteristic IC patterns.
机译：本文介绍了基于散焦数据而不是最佳聚焦数据的光学邻近校正（OPC）的优势。通过另外接受不同图案的尺寸的不对称变化，例如对于可以变得比其标称宽度更宽的隔离线，该方法可以提供比基于最佳工艺条件下采集的数据的标准OPC方法更强的抗断路和短路性能。基于仿真比较两种OPC方法的差异，并对照特征IC图案的实验数据进行检查。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

  • 客服微信

  • 服务号