Auburn University 200 Broun Hall Auburn, AL 36840 T: (334)-844-1800, F: 334-844-1809 cbs00016@auburn.edu;
rnAuburn University 200 Broun Hall Auburn, AL 36840 T: (334)-844-1800, F: 334-844-1809 deanron@auburn.edu;
rnLehigh University Whitaker Laboratories 5 E Packer Avenue Bethlehem, PA 18016 T: (610) 758-4228, sjl208@lehigh.edu;
rnProcess Solutions Consulting 8009 George Road, New Tripoli, PA 18066 T: (610)-248-2002, F: 484-217-2001 levilr@ptd.net;
机译:金相和SEM分析在DRIE处理的MEMS器件中侧壁表面表征中的应用
机译:用于MEMS器件和结构的DRIE / DSE处理的当前趋势
机译:使用MUMP,沟槽填充成型,DRIE和体硅蚀刻工艺的集成来设计和制造MEMS器件
机译:金相和SEM分析用DRIE处理的MEMS装置中侧壁表面的表征
机译:DRIE CMOS-MEMS工艺和集成加速度计的开发。
机译:非线性振动冲击过程提高接触式MEMS装置可靠性的数值分析
机译:通过Bonding-DRIE工艺制作的梳状电容器mEms器件的广义热设计模型:初步框架
机译:DRIE CmOs-mEms陀螺仪的制作,表征和分析