Toyohashi University of Technology, Toyohashi 441-8580, Japan;
optical constants (including refractive index, complex dielectric constant, absorption, reflection and transmission coefficients, emissivity); semiconductors; other semiconductors; chemical vapor deposition (including plasma-enhanced CVD, MOCVD, etc.);
机译:通过氧等离子体热退火ZnO缓冲层改善ZnO外延层的结晶度和光学性能
机译:在具有SiN_x夹层的Si(111)衬底上生长的GaN外延层的电,光学和结构性质
机译:非均质缓冲层上的GaN外延层:电学和光学特性
机译:Zngen_2外延层的光学特性
机译:宽带隙块状晶体和外延层的光学表征。
机译:位置可获取的低密度GaAs液滴外延量子点的结构和光学性质用于等离激元光学耦合的单光子源
机译:在具有SiNx夹层的Si(111)衬底上生长的GaN外延层的电,光学和结构性质
机译:外侧外延生长GaN层的光学表征;杂志文章