Northeastern University /P.R.China;
polishing; magnetic disc substrate; flatness;
机译:磁盘基板无滚转抛光的研究(第一报告)-抛光过程中基板边缘形状的变化-
机译:比较研究:振动辅助磁性磨料抛光中三种振动模式的抛光特性及其机理
机译:引气抛光抛光点对动力机制误差的影响分析
机译:磁盘基板抛光中的平坦误差产生机制
机译:通过磁浮法抛光(MFP)精加工用于轴承的高级陶瓷球,包括精细抛光,然后进行化学机械抛光(CMP)。
机译:会聚抛光:高质量光学平板和球体的简单快速全孔径抛光工艺
机译:用Al2O3研磨剂的磁盘基板高平整度抛光研究(第2次报告)
机译:关于在半导体中产生等离子体振荡的一种机制和在具有可变参数的气体放电等离子体填充的圆形波导中的电磁能传播