Tokyo Institute of Technology 4259 Nagatuta-Cho, Midori-ku, Yokohama 226-8503, Japan;
amorphous; nanocrystal; NiP; patterning;
机译:高能聚焦离子束在非晶碳化硅中的光学图形制作
机译:聚焦离子束写入法在非晶碳化硅中制备纳米级光学图案
机译:使用束辐照间隔的二维聚焦离子束铣削预测纳米图案的形貌
机译:聚焦离子束照射下非晶合金中自定向纳米晶的图案化
机译:通过使用原位TEM的泡沫成核和生长,通过原位TEM:顺序他植入和重离子照射与双光束辐射
机译:通过聚合物基板的地下处理具有聚焦离子束的外平面图案化
机译:使用聚焦离子束图案化预先加工的非晶和结晶材料的印刷
机译:聚焦激光束产生的衍射图案