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Linear Ion Source for Steel Sheet Surface Etching

机译：钢板表面蚀刻用线性离子源

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Linear ion source (LIS) was investigated for the surface etching process, especially the surface of cold rolled steel (CRS). In this study, Si substrate was used to substrate because rough surface of CRS is difficult to measure the etching depth. The LIS was operated in a collimated beam discharge with high energy Ar ions extraction. The etching behaviors showed strong dependences on the incident angle of ion beam. The maximum Si etching rate was obtained at 60°, which is similar to the trend of sputtering yield as a function of incident angle. The maximum ion current density was 389 μA/cm~(-2) at the distance between LIS and substrate of 100 mm. And the maximum etching rate was 3.4 nm/s at the distance of 60 mm
机译：研究了线性离子源（LIS）的表面蚀刻工艺，特别是冷轧钢（CRS）的表面。在本研究中，由于CRS的粗糙表面难以测量蚀刻深度，因此将Si基板用于基板。 LIS在准直束放电中进行操作，并提取高能Ar离子。刻蚀行为对离子束的入射角有很强的依赖性。在60°时可获得最大的Si蚀刻速率，这与溅射产率随入射角的变化趋势相似。 LIS与衬底之间的距离为100 mm时，最大离子电流密度为389μA/ cm〜（-2）。并且在60 mm的距离处最大蚀刻速率为3.4 nm / s

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