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Optimized scribing of TCO layers on glass by selective femtosecond laser ablation

机译：通过选择性飞秒激光烧蚀优化刻划玻璃上的TCO层

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Narrow trenches have been scribed into transparent conductive oxide (TCO) films on glass by laser ablation using nano- and femtosecond pulses of ∼ 1 μm wavelength. A detailed analysis of the obtained ablation craters and trenches shows that this processing, known as P1 scribes in the production of thin film solar cells, can be considerably optimized utilizing “cold” ablation: using femtosecond pulses, the P1-scribe can be done with almost rectangular cross-section profiles achieving the required electrical separation already at widths below 10 μm, without thermal and mechanical stresses in the substrate or adjacent material. Analogous preliminary results for P2-scribes indicate that this technique allows reducing the total scribe region (optically-inactive zone) to widths below 50 μm.
机译：使用约1μm波长的纳秒和飞秒脉冲，通过激光烧蚀在玻璃上的透明导电氧化物（TCO）膜上划出了狭窄的沟槽。对获得的烧蚀坑和沟槽的详细分析表明，利用“冷”烧蚀可以大大优化这种工艺（在薄膜太阳能电池生产中被称为P1划痕）：使用飞秒脉冲，可以使用以下方法完成P1划痕：几乎矩形的横截面轮廓已在10μm的宽度以下实现了所需的电气分离，而在基材或相邻材料中没有热应力和机械应力。 P2划痕的类似初步结果表明，该技术可将整个划痕区域（光学非活性区域）减小到50μm以下的宽度。

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