• 主题
高级搜索  >
历史搜索 清空历史
首页> 外文会议>Conference on reflection, scattering, and diffraction from surfaces >Determining thickness of films on a curved substrate by use ofellipsometric measurement
【24h】

Determining thickness of films on a curved substrate by use ofellipsometric measurement

机译：通过使用的几种测量测量弯曲基板上的薄膜厚度

获取原文
页面导航
  • 摘要
  • 著录项
  • 相似文献
  • 相关主题

摘要

The three intensity polarizer-sample-analyzer imaging ellipsometry is used to measure the ellipsometric parameters (`lf,A). In addition to the ellipsometric parameters, we introduce an extra angle a to measure the of the azimuth deviationof polarizer. After careful calibration, we found this deviation can indicate how much the surface normal slanted fromthe plane; then it can be used to deduce the thickness profile coated on a cylindrical lens. Using this technique, we notonly can determine the radius curvature of the curved surface, we also can calculate the thickness of the thin film coatedon a curved surface.
机译：三个强度偏振器样品分析仪成像椭圆形测量测量椭圆形参数（`LF，A）。除了椭圆形参数之外，我们还引入额外的角度A来测量偏振器的方位角偏差。经过仔细校准后，我们​​发现这种偏差可以指示从平面倾斜的表面垂直程度;然后它可用于推导涂覆在圆柱形透镜上的厚度曲线。使用这种技术，我们不能确定弯曲表面的半径曲率，我们还可以计算薄膜CoIdeon弯曲表面的厚度。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

  • 客服微信

  • 服务号