Polishing; FEM simulation; abrasive wear theory; PMMA; steel;
机译:不同抛光垫化学机械抛光中蓝宝石晶片材料去除量的研究
机译:不同抛光垫化学机械抛光中蓝宝石晶片材料去除量的研究
机译:PMMA上抛光材料去除的相关性-有限元模拟
机译:FEM模拟垫抛光中的材料去除
机译:开发用于微电子材料化学机械平面化的新一代聚氨酯抛光垫。
机译:利用纳米升压模拟测定弹性塑料微球体材料的弹性模量无机械抛光
机译:用仿生模式仿生抛光垫进行化学机械抛光的材料去除分布