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Reflection masks for soft x-ray projection lithography

机译：用于软X射线投影光刻的反射罩

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Abstract: A multilayer reflection mask is fabricated for soft x-ray projection lithography at a wavelength of 13 nm. A Mo/Si multilayer is deposited using magnetron sputtering to obtain high reflectivity at near normal incidence. Reactive ion etching in SF$-6$/ is applied to form a fine W absorber pattern with a thin SiO$-2$/ etch-stop layer. Observation of the resulting pattern profile with a scanning electron microscope shows a smooth reflective surface. Reflectivity measurement using a large- reflective-area sample indicates that the patterning process causes little damage to the multilayer. Projection imaging using a 20:1 Schwarzschild optic confirms that a 0.07-$mu@m line-and-space pattern can be printed.!11
机译：摘要：制造了用于13纳米波长的软X射线投影光刻的多层反射掩模。使用磁控溅射沉积Mo / Si多层膜以获得接近法线入射的高反射率。进行SF $ -6 $ /的反应离子刻蚀，以形成具有薄SiO $ -2 $ /刻蚀停止层的精细W吸收体图案。用扫描电子显微镜观察所得的图案轮廓显示出光滑的反射表面。使用大反射区域的样品进行的反射率测量表明，构图工艺几乎不会对多层膜造成损坏。使用20：1 Schwarzschild光学元件进行的投影成像可确认可以打印0.07-$mu@m的线和空间图案。！11

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